沈阳东镭光电

024-81029219

138-0498-9131

DL Photoelectricity
高增益激光放大系统

高增益激光放大系统

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   东镭光电DLNQL-1053-1000K-10产品可将小宽带或窄带的前端注入放大mJ量级的激光输出,近场光束质量呈匀滑的高斯分布。级间隔离能力大于103:1同步接口和水电气接口全部为快插接口,内部主要器件采用模块化设计,整机具有高可靠性、高性能和高稳定性的特点。东镭光电DLNQL-1053-10K产品可将脉冲能量为1nJ的种子光放大到焦耳量级,具有主动整形的能力。

应用领域:

·激光材料改性    ·激光冲击强化

产品特点:

•主动控制补偿技术:提供强度足够高、均匀的、干净的、可调控的辐照场

 

nJ输入/mJ输出,近场调制度为1.201.22,光谱宽度为0.2nm,放大倍数达108

 

•光学和模拟控制接口

 
•实现20种步进、旋转、驱动以及监测技术,通过激光控制远程计算机控制(RS232RS422可选)能够在复杂电磁环境下稳定工作

产品参数

DLNQL-1053

DLNQL-1053-10K

DLNQL-1053-1000K-10

激光波长

1053nm

晶体棒材料

Ndglass/NdYLF

增益倍数

=106@1nJ

=103@1μJ

1.5J(前级输入1nJ,放大倍率109倍)

100J(前级1-4ns分段可调,输出能量1nJ

重复频率

1Hz-10Hz

30S/

30min/

近场调制度

1.4:1

1.4:1

1.8:1

泵浦方式

半导体泵浦

混合泵浦

混合泵浦

能量稳定性

3%RMS

5%RMS

工作电压

220V/10Hz

工作温度

0-30

控制方式

计算机控制

   
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